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Polêmica sobre máquinas EUV na China coloca liderança da ASML sob escrutínio

Autoridades do governo dos Estados Unidos afirmam possuir evidências de que a empresa holandesa ASML teria enviado componentes e equipamentos relacionados à tecnologia de litografia EUV para território chinês. Apesar da gravidade da acusação, os órgãos oficiais não apresentaram provas concretas, nem à companhia nem à opinião pública. Em contrapartida, a ASML nega categoricamente a existência de qualquer máquina desse tipo na China.

O Departamento de Comércio dos EUA, questionado sobre a veracidade dessas alegações, confirmou não se possuir de um sistema EUV em operação no país asiático. O caso, embora pareça técnico, possui implicações geopolíticas e econômicas profundas, dado que a ASML é peça-chave na infraestrutura global de Inteligência Artificial.

Por que a ASML é fundamental para a IA global

A ASML detém um monopólio tecnológico absoluto: é o único fabricante mundial de máquinas de litografia EUV, essencial para imprimir circuitos microscópicos em chips de última geração. Sem esse equipamento, a produção de tecnologia avançada usada pela TSMC — fornecedora da Nvidia e da Apple — seria tecnicamente impossível.

O desenvolvimento dessa tecnologia é uma tradição de décadas de pesquisas e investimentos bilionários. Esse domínio de mercado consolidado na ASML como a empresa pública mais valiosa da Europa, com uma capitalização de mercado que gira em torno de US$ 700 bilhõesimpulsionada pela explosão da demanda por chips de IA.

Defesa da ASML e controle de exportações

A preocupação das autoridades americanas reside no fato de que a entrada de uma única máquina EUV na China representaria uma violação crítica aos controles de impostos de exportações por Washington para limitar o avanço militar e industrial de Pequim.

Em entrevista realizada há seis semanas, o CEO da ASML, Christophe Fouquetdetalha os protocolos de segurança da companhia:

• Rastreabilidade total: Cada equipamento enviado é monitorado, devolvido ou desmontado.
• Firewall interno: Funcionários baseados na China possuem acesso restrito, sendo isolados de tecnologias, documentos e treinamentos sensíveis de EUV.
• Complexidade técnica: Fouquet argumenta que a engenharia reversa é inviável, uma vez que a criação da luz EUV levou 20 anos de desenvolvimento exclusivo.

Interesses governamentais e o futuro da litografia

O cenário ganha complexidade com o papel do Departamento de Comércio sob a gestão de Lutnick. No final do ano passado, o governo decidiu investir até US$ 150 milhões na xLight, uma startup que busca desenvolver tecnologias de fonte de luz da próxima geração.

Embora a xLight se posicione como uma futura parceira da ASML, e não como uma concorrente direta, o CEO da ASML, Christophe Fouquet, mantém uma postura cética quanto à necessidade dessa tecnologia externa para manter a liderança da empresa. A situação levanta questionamentos sobre a orientação das pressões governamentais contra a ASML, especialmente considerando o investimento estatal em uma startup que atua na periferia do monopólio holandês.

Além da xLight, o setor observa com atenção a Substratostartup apoiada por Peter Thiel, que possui ambições declaradas de desenvolver uma tecnologia capaz de competir diretamente com o domínio da ASML no mercado de litografia.

A ASML não se vê precisando da tecnologia da xLight para manter sua liderança, afirmou Christophe Fouquet.

Na foto acima: CEO da ASML, Christophe Fouquet

Com informações do Techcrunch